Сегодня талантливая команда специалистов по материальному инжинирингу из Федеральной Политехнической Школы Лозанны в Швейцарии представила свой новый метод гравировки и вырезания нанометрических паттернов на двумерных материалах, который позволяет не только очень гибко манипулировать самими материалами, но в том числе изменять их свойства в определенных нужных для этого ситуациях. При этом новый метод выгодно отличается от многих традиционных именно тем, что обращается с поверхность рабочего материала крайне аккуратно, не рискуя повредить ни его, ни его конечных свойств.
Стандартная литография предполагает использование довольно агрессивных химикатов и акселераторов, которые ускоряют заряженные частицы, вроде электронов или ионов, которые, в свою очередь, выполняют функцию катализаторов гравировки. Однако такие методы являются довольно грубыми и не всегда подходящими при необходимости нанести гравировку или наноматериалы в крайне узком пространстве, либо на малой площади.
В качестве первоначального тестирования команда швейцарских ученых использовала дителлурид молибдена, который помещается на полимерный материал в качестве своеобразного слоя, реагирующего на температурные изменения, вследствие чего часть полимера превращается в газ – а в таком состоянии становится крайне легко манипулировать его свойствами. Таким образом, при применении совсем небольшого давления и усилий, специалисты могут осуществлять нанометрическую гравировку или изменения двумерных материалов, при этом, не теряя ни йоты полезного тепла и точности при работе с материалом.
Стоит отметить тот факт, что по большей части подобного рода манипуляции с двумерными материалами представляют собой что-то вроде испытательной площадки для последующих тестирований новых способов улучшения современной литографии. Потому что необходимость и актуальность в чрезвычайно тонкой литографии становятся все более и более ощутимыми, а потому многие ученые продолжают активно экспериментировать с разными подходами по лазерной гравировке материалов.
